Americké médium The Wall Street Journal vydalo 6. července článek, ve kterém uvádí, že posilující se politika identity ve Spojených státech může utlumit jejich technologické výhody.

Článek poukazuje na to, že ve Spojených státech je stále více rozšířen fenomén posuzování druhých na základě barvy pleti, a rasismus a politika identity začínají ovlivňovat politické směřování země a mít vliv na technologický vývoj. V článku se uvádí, že ve srovnání s výzkumníky ve Spojených státech jsou čínští vědci méně omezeni ideologií. Ačkoli si Spojené státy dlouho udržují vedoucí pozici v oblasti high-tech, Čína je rychle dohání.

Ta